德國Sentech Instruments GmbH 公(gong)司的(de)(de)所(suo)有(you)產品，該公(gong)司位(wei)于德國*都柏林，是一家從事薄膜(mo)測(ce)量儀器和等(deng)離子(zi)體(ti)設備(bei)研(yan)發(fa)、生產的(de)(de)高(gao)科技(ji)公(gong)司。SENTECH公(gong)司生產的(de)(de)各種等(deng)離子(zi)體(ti)刻(ke)蝕(shi)、沉(chen)(chen)積(ji)設備(bei)具有(you)高(gao)刻(ke)蝕(shi)率、低損傷、低溫、高(gao)均勻度、沉(chen)(chen)積(ji)速度快等(deng)特點，廣泛地用于半導體(ti)、微系統、有(you)機薄膜(mo)等(deng)領域(yu)。

SENTECH公司致力于發(fa)展薄膜測量技術(shu)(shu)(光(guang)譜橢偏儀(yi)(yi)、激光(guang)橢偏儀(yi)(yi)、反射(she)膜厚儀(yi)(yi))和等離(li)子(zi)加工(gong)技術(shu)(shu)(等離(li)子(zi)刻蝕、沉積系(xi)統(tong)，定制(zhi)解決方案)，**研發(fa)、制(zhi)造、銷售相關儀(yi)(yi)器和設備。

激(ji)光橢偏(pian)儀SE 400advanced

 多角度(du)激光橢偏儀 SE400advanced使用632.8nm波(bo)長HeNe激光器，對測(ce)量(liang)薄膜(mo)厚度(du)，折(zhe)射(she)率和(he)吸收系數有非常出色的精度(du)。 SE400advanced能(neng)夠分析單層膜(mo)，多層膜(mo)和(he)大塊材(cai)料(基底)

• 超(chao)高(gao)精度和穩定(ding)性，來源于高(gao)穩定(ding)激(ji)光光源、溫度穩定(ding)補償器(qi)(qi)設(she)置、起偏器(qi)(qi)跟蹤和超(chao)低(di)噪聲探測(ce)器(qi)(qi)

• 高(gao)精度樣品(pin)校準(zhun)，使(shi)用光學(xue)自動對準(zhun)鏡和顯微(wei)鏡

• 快速簡(jian)易(yi)測(ce)量，可選(xuan)擇(ze)不(bu)同的應用模型和入射角(jiao)度(du)

• 多角度測(ce)量，可完全支持復雜應用和*準(zhun)厚度

• 全方面(mian)的預(yu)設應用，包含微電(dian)(dian)子、光電(dian)(dian)、磁(ci)存儲、生命科學等領域

規格:

• 激光波長632.8 nm

• 150 mm (z-tilt) 載物(wu)臺

• 入射角度(du)可(ke)調，步進(jin)5º

• 自動對準(zhun)鏡/顯微鏡，用于樣(yang)品(pin)校準(zhun)

• Small footprint

• 以太網接口連接到PC

SE 400advanced軟件特征(zheng):

• 預先定義應用(yong)

• 多角度測量

• 廣(guang)泛(fan)的(de)材料(liao)數(shu)據庫

• 擬合狀況(kuang)的圖形反饋

• 支持多種語言

代(dai)表型號：SI500、SI500PPD、SE400advanced、SE500advanced、SE 900-50、SENDURO、SENresearch、Reflectometer RM、Etchlab200、SI100.....

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